Технологии, реализуемые на оборудовании концепта GN fab.
Ионно-плазменная очистка в производстве микроэлектроники – это обработка поверхности пластины в плазме за счет сочетания ионной бомбардировки и химического воздействия для удаления загрязнений, таких как остатки органики, инородные частицы и образовавшиеся окислы...