Описание
Установка травления в удаленной плазме Vega серии FAB 100/150 предназначена для плазмохимического удаления полимеров, в том числе фоторезистов, с полупроводниковых пластин диаметром 100/150 мм в условиях серийного производства малогабаритных изделий широкой номенклатуры, чувствительных к наведенному заряду. Пластины в установку загружаются одиночные, в кассетах или в герметичном контейнере.
Базовая технология, реализуемая в оборудовании – применение удаленного источника плазмы на индуктивно-связанном разряде. Индуктивно-связанный разряд имеет высокую эффективность передачи энергии в плазму при низких значениях электронной температуры (по сравнению с СВЧ разрядом и разрядом с емкостной связью) и обеспечивает высокую эффективность диссоциации при строгой пространственной локализации разряда. Отношение степени диссоциации к степени ионизации в индуктивно-связанном разряде может быть в 100-1000 раз выше, чем в СВЧ плазме. Таким образом, установка обеспечивает высокую скорость травления при максимально мягком воздействии на подложку и возможность контроля каналов протекания химических реакций.